반도체 포토리소그래피(photolithography) 공정에 대한 설명으로 옳지 않은 것은?
- ①마스크에 설계된 패턴을 웨이퍼로 옮기는 공정이다.
- ②감광제는 자외선을 조사하면 결합 구조가 변한다.
- ③양성감광제는 자외선이 조사되지 않은 부분이 현상액에 의해 제거된다.
- ④패턴의 구조가 작아질수록 양성감광제가 음성감광제보다 유리하다.
선지를 골라 바로 채점해 보세요.
정답 ③
출처: 인사혁신처 공개 기출(공공데이터포털, 이용허락 제한 없음)
[9급 지방직 공업화학 2026년 16번]
공업화학
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