미소전자기계기구 구현을 위한 대표 공정 중 하나인 실리콘 산화공정에 대한 설명으로 적절하지 않은 것은?
- ①산화막은 실리콘 표면의 아래쪽으로도 성장한다.
- ②생성된 산화물 두께는 소비되는 실리콘 두께보다 크다.
- ③증착기술로 얻어진 산화물보다 순도가 낮다.
- ④수증기 분위기에서 산화시키는 기술을 습식산화라고 하며, 건식산화보다 성장속도가 빠르다.
선지를 골라 바로 채점해 보세요.
정답 ③
출처: 인사혁신처 공개 기출(공공데이터포털, 이용허락 제한 없음)